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Martin Knaut

Martin Knaut wurde am 20.02.1981 in Halle (Saale) geboren. Bereits während seines Studiums der Elektrotechnik an der Technischen Universität Dresden begann er sich mit der Atomlagenabscheidung (atomic layer deposition - ALD) zur Herstellung dünnster funktionaler Schichten zu beschäftigen. Zur Untersuchung und Kontrolle dieser Beschichtungsmethode optimierte er in situ und in vacuo Messtechniken und entwickelte an die Atomlagenabscheidung angepasste Analysemethoden. Dies ermöglichten die detailierte Untersuchung von ALD-Prozessen und die Entwicklung spezifischer Prozesse für diverse Anwendungsbereiche.